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  • L2005英國Ossila勻膠機
    L2005英國Ossila勻膠機

    Spin Coater,英國Ossila勻膠機,操作簡單,方便實用,旋涂均勻,結構小巧緊湊,為實驗室提供了理想的解決方案,其采用創(chuàng)新設計的非真空卡盤式旋涂吸盤,無需真空泵或充氮氣,就能達到很好的旋涂效果??蓪Υ笮〔煌?guī)格的基材都可進行旋涂,尤其是對超薄樣品,即使基片厚度0.7毫米、0.55毫米、0.2毫米或更薄時同樣能達到旋涂效果。不會出現(xiàn)真空吸盤旋涂較薄的基材襯底翹曲現(xiàn)象,影響涂層的均勻性。

    時間:2024-10-25型號:L2005訪問量:3164
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  • SDP-UVT美國Novascan紫外臭氧清洗機
    SDP-UVT美國Novascan紫外臭氧清洗機

    美國Novascan紫外臭氧清洗機是臺式機,具有數(shù)字控制系統(tǒng),燈管尺寸自4x4” 至 20x20”不等。PSD的特征在于強大的柵格紫外燈,帶反射罩,樣品臺高度可調,可以很好地進行樣品定位,使清洗效果達到理想狀態(tài)。4x4”或以上尺寸系統(tǒng)帶進&出氣口雙氣路設計PSD紫外臭氧清洗機通過一個操作簡便的預置控制器進行控制,讓您的工作變的輕而易舉。

    時間:2024-10-25型號:SDP-UVT訪問量:6513
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  • L20002Ossila紫外臭氧清洗機
    L20002Ossila紫外臭氧清洗機

    英國Ossila紫外臭氧清洗機(UVO),是一種簡單,經濟,快速的材料表面清洗設備,只需把樣品放置到樣品盤上,關上艙門,設置時間,并按運行,就可以了,能快速去除大多數(shù)無機基材(比如石英,硅片,金,鎳,鋁,砷化鎵,氧化鋁等)上的有機污染物。特別是當基材和薄膜蒸鍍需要很好的粘接時,紫外清洗非常理想。要獲得超潔凈的表面,只需要在傳統(tǒng)清洗后,再用紫外臭氧清洗幾分鐘就可獲得!

    時間:2024-10-25型號:L20002訪問量:3397
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  • L20005Ossila勻膠旋涂儀
    L20005Ossila勻膠旋涂儀

    英國Ossila公司勻膠旋涂儀,方便實用,結構小巧緊湊,占地空間小,為實驗室提供了理想的解決方案,采用創(chuàng)新設計的旋涂盤,無需真空泵或充氮氣,就能達到很好的旋涂效果,操作簡單方便,旋涂均勻,可對大小不同規(guī)格的基片進行旋涂。 Ossila旋涂機內置調整水平裝置,Z大限度的保證旋涂均勻。

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  • Ossila非真空勻膠旋涂儀
    Ossila非真空勻膠旋涂儀

    Ossila非真空旋涂機,勻膠旋涂儀一直以高質量的涂布效果而著稱。Ossila公司根據眾多客戶反饋,結合公司內部強大的研發(fā)力量推出一種全新的旋涂機,大大提高了產品的可用性和效率。新型旋涂機更小巧、重量更輕,不需真空泵或氮氣管線,機讀方便,更適合在手套箱和通風櫥內使用。

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  • L2006Ossila浸膠機
    L2006Ossila浸膠機

    Ossila浸膠機性能,內置軟件操作簡單,價格經濟,是科研領域工作者理想的高品質涂膠工具。 浸膠式涂布是工業(yè)和科研領域應用廣泛的薄片材料鍍膜工藝。它可以控制基片從溶液中取出的速度,從而改變鍍膜沉積膜的厚度。Ossila使用高精度電機,可以精準控制膜片提出速度-進而控制涂層厚度,保證良好重復性。 Ossila通過狹縫涂布機和注射泵的高精度平臺,保證平臺活動的高精準性,產生優(yōu)質膜片,重

    時間:2024-10-25型號:L2006訪問量:2946
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  • L2005Ossila狹縫擠出式旋涂機
    L2005Ossila狹縫擠出式旋涂機

    Ossila狹縫擠出式旋涂機結構緊湊,價格實惠,使用簡單,準確度高。 對于那些希望在小型實驗室中擴大實驗工藝的用戶來說,它是理想之選。與卷對卷和片對片沉積工藝相兼容,狹縫涂布是用于可擴展沉積薄膜的技術之一。其廣泛的加工窗口確保穩(wěn)定、無缺陷的沉積,適用于各種粘度的溶液。薄膜均勻度高,準確且可重復,厚度可通過改變流速和基材速度來控制。

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  • L2002Ossila紫外臭氧清洗機
    L2002Ossila紫外臭氧清洗機

    Ossila紫外臭氧清洗機(UVO),是一種簡單,經濟,快速的材料表面清洗設備,只需把樣品放置到樣品盤上,關上艙門,設置時間,并按運行,就可以了,能快速去除大多數(shù)無機基材(比如石英,硅片,金,鎳,鋁,砷化鎵,氧化鋁等)上的有機污染物。特別是當基材和薄膜蒸鍍需要很好的粘接時,紫外清洗非常理想。要獲得超潔凈的表面,只需要在傳統(tǒng)清洗后,再用紫外臭氧清洗幾分鐘就可獲得!

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